近年，中國於半導體製造領域不斷努力追趕，但差距依舊頗大，亦為受到最嚴重限制的科技產業。
ASML TWINSCAN EXE:5000 EUV為目前最先進的EUV極紫外光微影曝光機
英特爾晶圓代工實現先進半導體製造的重大里程碑，位於美國俄勒岡州希爾斯伯勒的英特爾研發基地中，研發人員
Intel 公布半導體製程與封裝技術的藍圖規畫，其中半導體製程採用新的命名方法，以符合市場新的認知，
