用光學藝術點亮多元共融的無限可能 ASML 獨家展出荷蘭當代藝術家與工程師共同創作「光點之舞」 台灣
ASML對外展示了最新EUV曝光機內部畫面，或許在其看來
半導體時代晶片微影技術與市場領導者 ASML，近日因荷蘭政府近期撤銷部分 ASML（艾司摩爾）在 2
作為半導體製造中的核心設備之一，曝光機至關重要，7nm以下製程所需的EUV曝光機只有ASML能生產，
日前有傳聞指稱，台積電砍掉了大約40%的EUV曝光機訂單，令人不免為ASML捏一把冷汗。
於半導體設備中，曝光機是核心設備，決定了製程的先進程度。
於半導體生產中，光刻機是核心設備，不僅決定了晶片製造的製程水準，亦為
全球光刻機龍頭ASML公布第二季財報，並公布第三季超預期營收展望。
日前傳出ASML新一代光刻機EXE:5000會跳票至2025年之後的消息，但似乎其已經找到幫手助拳了
當地時間4月21日，ASML艾司摩爾公布了第一季財報
