搶先下單3億美元一台的下一代EUV光刻機 Intel：延期亦有B計劃

做為IDM 2.0戰略的一部分，Intel上週公布了野心勃勃的產品及技術藍圖，其中先進製程的升級換代非常激進，不到4年內即要升級5代製程，且自2025年開始的製程將會首發新一代的EUV光刻機。

Intel之所以如此激進，是因為在搶先使用EUV極紫外光微影製程上吃過虧，其原本計劃於10nm就用上極紫外光微影製程，但EUV光刻機當時尚不成熟，隨後被台積電、三星搶先了，陰差陽錯之下製程落後了。

Intel現在的計劃是於Intel 4製程上使用EUV光刻機，計劃今年下半年投產，首發產品為2023年的Meteor Lake第14代Intel Core處理器。

現在的EUV光刻機仍為NA 0.33技術，Intel的重點押注在下一代EUV光刻機，亦即NA 0.55的ASML新一代光刻機，據稱成本高達3億美元。

事實上，4年來Intel已下單了6台NA 0.55的EUV光刻機，其中分為兩種，Twinscan Exe：5000系列主要用於製程研發，產能輸出為185WPH，每小時生產185片晶圓，2023年上半年交貨。量產型的為Twinscan Exe：5200，產能提升至200WPH，每小時生產200片晶圓，預計會於2024年送交，20A製程正好是於2024年量產。

然而，Intel此次搶先下單不怕延期嗎？關於此問題，主管Intel製程技術的高層Ann Kelleher於受訪中亦談及了此項可能性，但其表示就算下一代EUV光刻機延期了，Intel亦有個B計劃。至於Intel的B計劃如何解決下一代EUV光刻機跳票問題？就未明確說明了。

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