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EUV

TSMC

ASML EUV 光刻機。 晶圓代工龍頭台積電今天宣布,採用極紫外光 (EUV) 技術的強效版 7

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在 2019 中國積體電路設計大會上,中國科學院微電子所的院士劉明,談到中國大陸國內積體電路光刻技術

TSMC

上個月在日本召開的VLSI 2019峰會上,台積電(下稱TSMC)舉辦了一次小型的媒體會,會上他們公

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半導體製造過程中最複雜也是最難的步驟就是光刻,成本能佔到整個生產過程的1/3,光刻機亦因此成為最重要

Intel

於日前的投資者會議上,Intel宣布了未來三年的CPU、GPU及半導體製程規劃。

Samsung

進入10nm節點之後,全球只剩下英特爾、台積電及三星三大半導體公司有能力跟進,代工廠的選擇只有台積電

Samsung

今日,三星電子宣佈開發出業界首款,基於第三代10nm製程的DRAM記憶體顆粒,將服務於高端應用市場,

Apple

去年蘋果推出了 iPhone XR/XS/XS Max 三款手機,但是它們並沒有蘋果預期中的熱賣,消

TSMC

目前用於Apple A12/A12X、華為Kirin 980、AMD Radeon VII的7nm製

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2017年出貨11台,2018年出貨18台,ASML(艾司摩爾)表示,計劃於今年出貨30台EUV極紫