EUV

三星於昨天宣佈，他們已經啟用了位於韓國京畿道平澤市的第二條存儲晶片生產線，並且開始量產容量為16Gb

ASML的EUV光刻機已經成為7nm以下製程的關鍵了，三星、台積電、Intel都在購買單價高達10億

作為半導體行業最重要的生產設備，光刻機實在太重要了，整個芯片生產1/3的時間及成本都耗費在光刻上，E

ASML EUV 光刻機。 晶圓代工龍頭台積電今天宣布，採用極紫外光 (EUV) 技術的強效版 7

在 2019 中國積體電路設計大會上，中國科學院微電子所的院士劉明，談到中國大陸國內積體電路光刻技術

上個月在日本召開的VLSI 2019峰會上，台積電（下稱TSMC）舉辦了一次小型的媒體會，會上他們公

半導體製造過程中最複雜也是最難的步驟就是光刻，成本能佔到整個生產過程的1/3，光刻機亦因此成為最重要

於日前的投資者會議上，Intel宣布了未來三年的CPU、GPU及半導體製程規劃。

進入10nm節點之後，全球只剩下英特爾、台積電及三星三大半導體公司有能力跟進，代工廠的選擇只有台積電

今日，三星電子宣佈開發出業界首款，基於第三代10nm製程的DRAM記憶體顆粒，將服務於高端應用市場，