3+億美元能造1.8nm製程 Intel收到全球第一台高NA極紫外光曝光機
Intel官方宣布，位於奧勒岡州的晶圓廠已經收到ASML出貨的全球第一台高NA（Numerical aperture數值孔徑）EUV極紫外光曝光機，型號為Twinscan EXE:5000，其將幫助Intel繼續推進摩爾定律。
Intel早在2018年即向ASML訂購了新一代曝光機，將用於計劃今年量產的Intel 18A製程，亦即1.8nm等級。
Intel同時第一個下單了改良型的Twinscan EXE:5200，將於2025-2026年用於更先進製程。
據之前報導消息，ASML將於今年生產最多10台新一代高NA EUV曝光機，其中Intel即訂了高達6台。到了2027-2028年，ASML每年能生產20台左右的高NA EUV曝光機。
新一代曝光機的價格估計至少3億美元，甚至可能達到或超過4億美元，而目前低NA EUV曝光機需要2億美元左右。
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