三星打造17nm LPV工藝：28nm＋14nm二合一
半導體工藝不只是尖端的7/5/3/2nm，因為還有很多芯片並不需要太先進的製程，它們往往不太複雜，但對成本非常敏感。
今天，三星宣布推出全新的17LPV 17nm工藝，意為Low Power Value。
其實，它就是28nm工藝的進化版，融合了28nm BEOL後端工序、14nm FEOL前端工序，也就是在28nm節點的基礎上，加入了14nm FinFET立體晶體管，只需不高的成本，就能享受後者的能效優勢。
三星稱，17nm LPV工藝相比傳統28nm，芯片面積可縮小43％，可以帶來39％的性能提升或者49％的能效提升。
三星17nm LPV工藝的量產時間沒有說，但三星已經宣布第一個服務對像是ISP圖像信號處理器，屬於三星自家的CMOS傳感器產品線。
此外，三星還打造了14nm LPU工藝，意味Low Power Ultimate，但未透露詳情，可能也是28nm BEOL加上14nm FEOL。
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