沒有蔡司就沒有EUV曝光機 ASML唯一光學供應商擴充產能

蔡司半導體製造部（ZEISS SMT）近日宣布，啟用德國新生產基地，以擴大EUV光學元件產量。

此次擴充產能意義重大，因為蔡司半導體製造部是ASML EUV曝光機的唯一光學供應商，扮演著無可取代的角色，可以說沒有蔡司就沒有EUV曝光機。

蔡司半導體製造部產能是限制ASML EUV曝光機產量的關鍵瓶頸，直接決定了ASML能否達成2027年增產30%的目標。ASML於今（2026）年2月公布的年報中警告，如果蔡司半導體製造部的生產中斷持續較長時間，ASML將實際上停止營運。

蔡司半導體製造部獨家供應ASML EUV微影設備中的透鏡、反射鏡和照明系統。一套High-NA EUV微影系統由超過4萬個元件組成，重約12噸，平面反射鏡製造需耗時數月。

為支援蔡司半導體製造部擴充產能，ASML提供了19.1億歐元貸款與11.9億歐元預付款。雙方目標是將每台曝光機的組裝週期從約22週縮短至15-16週，此將顯著提升交貨效率，並紓解EUV曝光機供不應求的局面。

採購金額方面，2023年ASML從蔡司半導體製造部採購33.3億歐元的光學設備，2024年達到39.5億歐元，2025年進一步增加至44.1億歐元。