EUV曝光機研發難在哪？ASML這樣說

於半導體設備中，曝光機是核心設備，決定了製程的先進程度。

極紫外光（EUV）為目前最先進的曝光機，可以製造7nm以下的製程，全球僅有荷蘭艾司摩爾（ASML）能夠生產，新一代EUV曝光機單價達4億美元。

研發EUV曝光機究竟有多難？全球還有別的公司可以製造出來嗎？對於如此疑問，ASML日前於財報會議上作了回應。

ASML表示，就ASML而言，它由數百家供應商組成，每家供應商於那方面都屬世界級的。只要提及TRUMPF、Zeiss、VDSL的名字，它們的工作都是世界級的，這只是上百家供應商中的三家。

研發曝光機需要的不僅是專利，它的訣竅是人，是大腦，ASML表示這些花了40年的時間。

物理學規律於全球都是一樣的，但是ASML做到這一步有著數百家公司累積的專業知識，其作為系統整合商做出了曝光機。

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