Intel 18A首推High-NA EUV製程意義重大 超前台積電四年

日前，ASML於財報會議上出乎意料地宣布了一個好消息：Intel 18A製程已經率先量產了高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）技術，此為全球首次。

Intel確實是全球最先購買High-NA EUV曝光機的，但Intel之前的規劃藍圖中，只有到14A製程節點才會應用該技術，後者2028年才會試產，2029年才會量產。

如今High-NA EUV的量產提前了三年之多，確實讓人想不到，雖然該技術只是在18A製程的部分層中量產，還不會取代目前的Low-NA EUV曝光機。

那Intel率先量產High-NA EUV技術有什麼意義？還真不是純粹作秀，Intel公布的資訊顯示，High-NA EUV曝光層的成本較目前的EUV成本還低，後者需要40多個步驟才能完成的曝光過程僅需要用High-NA EUV曝光機一次即能完成。

再往別的方面來看，Intel於18A製程上即率先使用High-NA EUV技術生產，可以為下一代的14A製程避雷，提前部署可以累積經驗，到了14A製程大規模量產High-NA EUV技術時即能快速產能爬坡。

14A製程對Intel來說可能比18A製程還要重要，不僅是技術更新換代，14A是Intel爭取蘋果、Google、微軟、亞馬遜、Meta等公司代工訂單的核心一戰，此代再拿不下大客戶的訂單，Intel於代工市場真的沒什麼機會了，哪怕美國政府再強制輸血亦無用。

此外，於High-NA EUV技術上，Intel亦能完成對台積電的一次超越，過去十多年當中，Intel為什麼於先進製程上落後，很多人不知道的是，Intel之前對EUV量產的進度非常保守，一直希望用DUV+SAQP多重圖案化之類的技術繼續更新換代，結果被台積電率先量產EUV徹底超車了。

現在，台積電對High-NA EUV曝光機意興闌珊，A12製程之前皆不會用，亦即2030年之前不會量產High-NA EUV技術，而Intel此波量產直接提前了四年，實現了一次對台積電的技術領先。

至於雙方此次押注究竟誰能笑到最後，現在說還太早，就讓我們繼續看下去！

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