Intel 7nm EUV極紫外光刻為何不先做CPU而是GPU？
於日前的投資者會議上，Intel宣布了未來三年的CPU、GPU及半導體製程規劃。
除了14nm及10nm製程之外，Intel更首次宣布了7nm製程的進展，不僅會用上EUV極紫外光刻製程，且2021年就能量產了。只不過首款7nm EUV製程產品是GPU而非預期中的CPU，為何如此呢？Intel的解釋是GPU在使用新製程時風險較低，製造較簡單。
Intel 2021年首款7nm製程產品不是CPU處理器，而是GPU顯示卡，正確地說是基於Xe架構、採用EMIB 2D整合封裝和Foveros 3D混合封裝、推向數據中心AI和高效能運算的GPGPU通用計算加速卡。
身為一家CPU為主的公司，Intel為何於新一代製程上首發GPU而非CPU呢？此問題想必大家都很好奇，Intel高級副總裁-Venkata Renduchintala說明選擇原因，理由就是在使用新一代製程時，特別是EUV極紫外光刻製程上，首發GPU是因為風險較低，缺陷問題較容易解決，哪怕犧牲一點效能。
從Intel的表態來看，其是吸取了10nm製程難產的經驗了，7nm EUV是新一代製程，不會冒然使用新製程去生產難度較高的CPU，而是選擇GPU產品先行，控制新製程量產的風險，以便為CPU邁向7nm EUV製程累積經驗。
延伸影片閱讀：
喜不喜歡這篇文章？留言給我們
The Author
