日前，三星聯合Synopsys宣布3nm GAA製程已經流片成功，此為全球首個GAA電晶體製程流片，
於先進半導體製程上，Intel目前最新的是10nm製程，落後於台積電、三星。
台積電今日線上舉辦2021年度技術研討會，公布了未來新製程進展
IBM宣布製造出全球首款2nm工藝節點的晶圓，並在紐約州奧爾巴尼的工廠展示了2nm工藝生產的完整30
做為全球最大最先進的晶圓代工廠，台積電在7nm、5nm上領先三星等對手，明年面還會量產3nm，接下來
這幾年，天字一號代工廠台積電在新工藝進展上簡直是開掛一般的存在，7nm 工藝全面普及，5nm 工藝一
本週，圍繞台積電的 2nm 先進製程傳來利多消息。 其 2nm GAA 工藝研發進度提前，目前已經結
Intel目前正在為10nm工藝的難產而頭疼，未來一年的主力工藝還將是14nm的各種改良版，而競爭對
