ASML

半導體時代晶片微影技術與市場領導者 ASML，近日因荷蘭政府近期撤銷部分 ASML（艾司摩爾）在 2

彭博引述熟悉內情的消息人士說法指出，中芯國際使用來自艾司摩爾控股公司(ASML Holding NV

作為半導體製造中的核心設備之一，曝光機至關重要，7nm以下製程所需的EUV曝光機只有ASML能生產，

日前有傳聞指稱，台積電砍掉了大約40%的EUV曝光機訂單，令人不免為ASML捏一把冷汗。

NVIDIA 將 GPU 加速運算用在運算式微影技術領域。當前的晶片製程已接近物理學所能達到的極限，

於半導體設備中，曝光機是核心設備，決定了製程的先進程度。

於半導體生產中，光刻機是核心設備，不僅決定了晶片製造的製程水準，亦為

做為IDM 2.0戰略的一部分，Intel上週公布了野心勃勃的產品及技術藍圖，其中先進製程的升級換代

Intel 向 ASML 購買首台 TWINSCAN EXE:5200 系統，於導入 EUV 0.5

全球光刻機龍頭ASML公布第二季財報，並公布第三季超預期營收展望。