日前有傳聞指稱,台積電砍掉了大約40%的EUV曝光機訂單,令人不免為ASML捏一把冷汗。
NVIDIA 將 GPU 加速運算用在運算式微影技術領域。當前的晶片製程已接近物理學所能達到的極限,
於半導體設備中,曝光機是核心設備,決定了製程的先進程度。
於半導體生產中,光刻機是核心設備,不僅決定了晶片製造的製程水準,亦為
做為IDM 2.0戰略的一部分,Intel上週公布了野心勃勃的產品及技術藍圖,其中先進製程的升級換代
Intel 向 ASML 購買首台 TWINSCAN EXE:5200 系統,於導入 EUV 0.5
全球光刻機龍頭ASML公布第二季財報,並公布第三季超預期營收展望。
日前傳出ASML新一代光刻機EXE:5000會跳票至2025年之後的消息,但似乎其已經找到幫手助拳了
ASML是全球唯一一家量產EUV光刻機的廠商,台積電、三星、Intel的7nm、5nm及未來的3nm
當地時間4月21日,ASML艾司摩爾公布了第一季財報