台積電退出英飛凌推進：擴展GaN晶圓生產

根據媒體報道，英飛凌宣布其在12吋（300mm）晶圓上的可擴展氮化鎵（GaN）生產技術已成功步入正軌。該公司計劃於2025年第四季開始向客戶提供首批樣品。

英飛凌強調，其作為垂直整合製造商（IDM）的生產策略，能夠確保更高品質的產品、更快的上市時間以及出色的設計和開發靈活性。

公司掌握了在​​矽（Si）、碳化矽（SiC）和氮化鎵（GaN）這三種關鍵材料上進行300mm晶圓生產的技術。GaN半導體因其更高的功率密度、更快的開關速度和更低的功率損耗優勢，可實現更緊湊的設計，從而顯著降低智慧型手機充電器、太陽能逆變器、工業及人形機器人等電子設備的能耗和發熱。

英飛凌是全球首家成功在現有基礎設施中開發出300mm GaN晶圓技術的半導體製造商。與目前主流的200mm晶圓相比，300mm晶圓生產技術更先進、效率更高，更大的晶圓直徑使每片晶圓的晶片產量提升至原來的2.3倍。

同時，有傳聞指出晶圓代工龍頭台積電（TSMC）將退出GaN晶圓代工市場，其位於中國台灣新竹的相關產線將停止生產。

台積電已向DigiTimes證實此消息，表示經過全面評估後，基於市場狀況及公司長期業務策略的考量，決定在未來兩年內逐步退出GaN晶圓代工業務。台積電表示正與客戶緊密合作，以確保在過渡期內順利完成業務交接。

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