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EUV

三星平澤市P2廠投產16Gb LPDDR5記憶體顆粒 採EUV光刻三代10nm級工藝
三星於昨天宣佈,他們已經啟用了位於韓國京畿道平澤市的第二條存儲晶片生產線,並且開始量產容量為16Gb

台積電採用極紫外光 (EUV) 強效版 7 奈米製程正式量產,6 奈米預計明年 Q1 試產
ASML EUV 光刻機。 晶圓代工龍頭台積電今天宣布,採用極紫外光 (EUV) 技術的強效版 7
三星於昨天宣佈,他們已經啟用了位於韓國京畿道平澤市的第二條存儲晶片生產線,並且開始量產容量為16Gb
ASML的EUV光刻機已經成為7nm以下製程的關鍵了,三星、台積電、Intel都在購買單價高達10億
ASML EUV 光刻機。 晶圓代工龍頭台積電今天宣布,採用極紫外光 (EUV) 技術的強效版 7
在 2019 中國積體電路設計大會上,中國科學院微電子所的院士劉明,談到中國大陸國內積體電路光刻技術