EUV

身為全球唯一的極紫外光微影（EUV）曝光機供應商，ASML過去兩三年業績其實是面臨壓力的

近年，中國於半導體製造領域不斷努力追趕，但差距依舊頗大，亦為受到最嚴重限制的科技產業。

先進的半導體製程有許多挑戰，其中不受控制的隨機性圖案變異導致良率下降及生產進度延誤，Fractili

ASML TWINSCAN EXE:5000 EUV為目前最先進的EUV極紫外光微影曝光機

台積電的 N2（2 奈米級）製造技術可望 比現有的 N3（3 奈米級）製造製程提供眾多優勢，因為它將

用光學藝術點亮多元共融的無限可能 ASML 獨家展出荷蘭當代藝術家與工程師共同創作「光點之舞」 台灣

ASML對外展示了最新EUV曝光機內部畫面，或許在其看來

Intel官方宣布，位於奧勒岡州的晶圓廠已經收到ASML出貨的全球第一台

彭博引述熟悉內情的消息人士說法指出，中芯國際使用來自艾司摩爾控股公司(ASML Holding NV

EUV極紫外光刻機雖然出自歐洲的荷蘭，但是歐洲一直沒有自己的EUV生產線，直到現在。 當地時間9月2