EUV

台積電的 N2（2 奈米級）製造技術可望 比現有的 N3（3 奈米級）製造製程提供眾多優勢，因為它將

用光學藝術點亮多元共融的無限可能 ASML 獨家展出荷蘭當代藝術家與工程師共同創作「光點之舞」 台灣

ASML對外展示了最新EUV曝光機內部畫面，或許在其看來

Intel官方宣布，位於奧勒岡州的晶圓廠已經收到ASML出貨的全球第一台

彭博引述熟悉內情的消息人士說法指出，中芯國際使用來自艾司摩爾控股公司(ASML Holding NV

EUV極紫外光刻機雖然出自歐洲的荷蘭，但是歐洲一直沒有自己的EUV生產線，直到現在。 當地時間9月2

作為半導體製造中的核心設備之一，曝光機至關重要，7nm以下製程所需的EUV曝光機只有ASML能生產，

日前有傳聞指稱，台積電砍掉了大約40%的EUV曝光機訂單，令人不免為ASML捏一把冷汗。

作為摩爾定律的提出者，Intel亦為最堅定的摩爾定律捍衛者，多次表示半導體製程還會繼續提升下去。

於半導體設備中，曝光機是核心設備，決定了製程的先進程度。