EUV

作為半導體製造中的核心設備之一，曝光機至關重要，7nm以下製程所需的EUV曝光機只有ASML能生產，

日前有傳聞指稱，台積電砍掉了大約40%的EUV曝光機訂單，令人不免為ASML捏一把冷汗。

作為摩爾定律的提出者，Intel亦為最堅定的摩爾定律捍衛者，多次表示半導體製程還會繼續提升下去。

於半導體設備中，曝光機是核心設備，決定了製程的先進程度。

近幾年，台積電、三星於半導體製程上超越了Intel

於半導體生產中，光刻機是核心設備，不僅決定了晶片製造的製程水準，亦為

做為IDM 2.0戰略的一部分，Intel上週公布了野心勃勃的產品及技術藍圖，其中先進製程的升級換代

近幾年，台積電一躍成為半導體製造行業的一哥，不僅是全球晶圓代工的絕對主力

近一年來半導體市場產能吃緊，晶片漲價，上游的晶圓廠亦不得不提升產能，光刻機是最關鍵的生產設備之一了。

全球光刻機龍頭ASML公布第二季財報，並公布第三季超預期營收展望。